研磨和抛光是两种不同的表面处理技术，它们的主要区别在于加工精度、表面粗糙度、使用的磨料粒度以及加工方法。

加工精度和表面粗糙度

研磨：加工精度可达IT5~IT1，表面粗糙度可达Ra0.63~0.01微米。

抛光：达到的表面光洁度要比研磨更高，表面粗糙度可以更低，通常可以达到Ra0.001微米甚至更高。

磨料粒度

研磨：使用的磨料粒度较粗，适用于去除较大的表面缺陷和粗糙度较高的材料。

抛光：使用的磨料粒度较细，如微晶蜡、钻石粉等，以达到更高的表面光洁度。

加工方法

研磨：基本只采用机械的方法，通过研具与工件在一定压力下的相对运动进行加工。

抛光：可以采用机械、化学或电化学的方法，使工件表面粗糙度降低，获得光亮、平整的表面。

应用领域

研磨：适用于各种金属和非金属材料的加工，加工的表面形状多样，包括平面、圆柱面、圆锥面、球面、螺纹、齿面等。

抛光：常用于需要高光洁度和良好外观的场合，如精密机械零件、光学元件、首饰等。

后续处理

研磨：通常是抛光的前道工序，用于去除表面的不规则性和粗糙度。

抛光：可以在同一台设备上同时实现研磨和抛光，分为粗抛和精抛两个阶段。

总的来说，研磨和抛光都是为了提高工件的表面质量，但它们在加工精度、表面粗糙度、磨料粒度和使用方法上有所不同。研磨主要用于去除较大的表面缺陷和粗糙度较高的材料，而抛光则用于获得更高光洁度的表面。在实际生产中，通常会结合使用研磨和抛光，以达到最佳的表面质量。